Copper-Containing Chalcogenide Glasses as Electrode Materials Sensitive to Cupric Ions

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Abstract
銅を含むカルコゲナイドガラスのCu2+イオンに対する応用性を, Cu-As-Se系ガラス電極について系統的に調べた. 銅を含むガラス電極はCu2+イオンに応答性を示すが, 銅を含まないものは応答性を示さないことから, Cu2+イオンに応答するためには電極中に銅の存在することが必須条件であることが明らかとなった. 更に, 電極電位とCu2+イオン濃度の対数値との間の直線性や表面処理に対する安定性等に関して, 最適のガラス組成Cu0.10As0.34Se0.56があることを見出した. このガラスから作製された電極は, 10-6-10-2MのCu2+イオンの濃度範囲で30mV/decadeの傾きのネルンスト式に従う挙動を示した. この傾きの値は, 電位決定反応が2電子過程であることを意味している. 幾つかの金属イオンに対する応答性の検討から, この種のガラス電極はAg+やHg2+イオンからは妨害を受けるものの, Mg2+, Co2+, Mn2+, Fe3+, Sn4+など多くのイオンに対して充分な選択性を有することが確認された.

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