Elektronenstrahl‐Meßtechnik zur Prüfung integrierter Schaltungen
Open Access
- 1 August 1982
- journal article
- research article
- Published by Wiley in Physikalische Blätter
- Vol. 38 (8) , 253-258
- https://doi.org/10.1002/phbl.19820380804
Abstract
Die Entwicklung von immer höher integrierten Schaltungen macht den Einsatz entsprechend empfindlicher Prüfmethoden erforderlich. Im folgenden Artikel werden elektronenoptische Verfahren beschrieben, die es gestatten, statische und dynamische elektrische Potentiale an beliebigen Punkten einer integrierten Schaltung zu messen. Dabei fungiert ein Elektronenstrahl als berührungslos und zerstörungsfrei arbeitende Meßsonde. Wie leistungsfähig die neue Meβtechnik ist, wird anhand einiger Beispiele gezeigt.Keywords
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- Elektronenstrahl‐Lithographie, ein Mittel zur Entwicklung Integrierter SchaltungenPhysikalische Blätter, 1981
- Die Physik der GroßintegrationPhysikalische Blätter, 1981
- Electron-beam testing of VLSI circuitsIEEE Journal of Solid-State Circuits, 1979
- LIII. The Examination of p-n Junctions with the Scanning Electron Microscope†Journal of Electronics and Control, 1957