Zur Frage des Diffusionsverhaltens des Kupfers auf der Nickelseite des Systems Kupfer—Nickel

Open Access
Publisher Website
Google Scholar
Abstract
Verschiedene Autoren erhielten bei Messungen des gemeinsamen Diffusionskoeffizienten auf der Nickelseite des Systems Kupfer-Nickel unterschiedliche Ergebnisse. Insbesondere wurde in einigen Fällen unterhalb von etwa 15% Kupfer ein Wiederanstieg des DK beobachtet. Zur Klärung des Sachverhalts wurde die Meßgenauigkeit durch Einschränkung des Konzentrationsbereichs auf 28%, 5% und 1% Kupfer und durch Analyse des Diffusionsprofils mit einer Elektronen-Mikrosonde wesentlich gesteigert. Die Versuche zeigen, daß der DK in diesem Konzentrationsbereich zur Nickelseite hin nicht wieder ansteigt, solange man sich im Bereich der Volumendiffusion befindet. Bei 1000°C kann aber die Korngrenzendiffusion bereits mit ins Spiel kommen, insbesondere, wenn es sich um feinkörnige Proben oder elektrolytisch aufgebrachte Schichten handelt. Eine genauere Analyse von Literaturangaben der Diffusion im System Kupfer-Nickel läßt ebenfalls diesen Schluß zu. Der aus den Versuchen bei Extrapolation auf unendliche Verdünnung erhaltene Fremd-Diffusionskoeffizient für Kupfer in Nickel stimmt mit Literaturwerten gut überein.

This publication has 0 references indexed in Scilit: