Ein Vergleich zwischen verschiedenen physikalisch-chemischen Atzverfahren für Siliciumnitridkeramiken / A Comparison of Different Physical-Chemical Methods of Etching for Silicon Nitride Ceramics
- 1 August 1990
- journal article
- research article
- Published by Walter de Gruyter GmbH in Practical Metallography
- Vol. 27 (8) , 385-390
- https://doi.org/10.1515/pm-1990-270803
Abstract
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