Structure and microhardness of magnetron sputtered ZrCu and ZrCu-N films

• 1 March 1999
• journal article
• Published by Elsevier in Vacuum
• Vol. 52  (3) , 269-275
• https://doi.org/10.1016/s0042-207x(98)00297-8

Abstract

Keywords

• X RAY REFLECTIVITY
• MAGNETRON SPUTTERING
• NITROGEN

Funding Information

• Ministerstvo Školství, Mládeže a Tělovýchovy (96059)
• Grantová Agentura České Republiky (106/96/K245)