Thermische Zersetzung und Aktivierung von Hexafluorosilicaten für Halogenaustauschreaktionen, ein Beitrag zur Frage der Wanderung von komplexen Gruppen in Festkörpern
- 1 April 1979
- journal article
- research article
- Published by Wiley in Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie
- Vol. 452 (1) , 43-53
- https://doi.org/10.1002/zaac.19794520107
Abstract
Thermische Zersetzung und die damit für den Halogenaustausch verbundene Aktivierung von kubischen Hexafluorosilicaten A2SiF6 mit A = K, Rb, Cs, Tl werden besonders am Beispiel von A = K beschrieben. Es wird eine aktive KF‐ und eine aktive Si‐Komponente nachgewiesen. Die Aktivierung von KF im Gemisch mit K2SiF6 wird erläutert. Der Mechanismus der Zersetzung wird dargestellt und durch einen Formelvorschlag beschrieben. Im Festkörper wird die Wanderung von SiF‐Gruppierungen postuliert.Keywords
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