The effect of oxygen chemisorption on the electrical properties of thin copper and silver films
- 1 May 1971
- journal article
- Published by Elsevier in Thin Solid Films
- Vol. 7 (5) , 355-365
- https://doi.org/10.1016/0040-6090(71)90052-6
Abstract
No abstract availableKeywords
This publication has 16 references indexed in Scilit:
- The effect of oxygen adsorption on the temperature coefficient of electrical resistance of unannealed thin copper filmsThin Solid Films, 1970
- Influence of oxygen and carbon monoxide chemisorption on the effective thickness of thin copper filmsJournal of Catalysis, 1969
- Influence of oxygen chemisorption on the thickness of thin silver filmsJournal of Catalysis, 1968
- Zur Wirkung von Alkali-Promotoren auf EisenkatalysatorenZeitschrift für Physikalische Chemie, 1965
- Elektronische Wechselwirkung bei der Zersetzung des Methans an im Ultrahochvakuum aufgedampften NickelfllmenZeitschrift für Physikalische Chemie, 1965
- Die Schichtdicken- und Temperaturabhängigkeit der Adsorption von Kohlenmonoxid an aufgedampften Nickelfilmen und der dabei auftretenden Widerstandsänderungen*Zeitschrift für Physikalische Chemie, 1964
- Ordnungs- und Körnungsvorgänge in dünnen Silber- und BleischichtenThe European Physical Journal A, 1960
- Widerstandsänderung von dünnen freitragenden Kupfer-und Goldschichten durch GasbeladungThe Science of Nature, 1957
- Ermittlung der elektronischen Wechselwirkung zwischen adsorbierten Fremdmolekeln und der Oberfläche dünner Nickelschichten bei niedrigen Temperaturen durch elektrische Widerstandsmessungen.*Zeitschrift für Physikalische Chemie, 1954
- Chemisorption of oxygen and its effect on the electrical resistance of a silver catalyst. Part ITransactions of the Faraday Society, 1946