Anwendung de Neutronenaktivierungsanalyse für die industrielle Gütekontrolle von Halbleitermaterialien
- 1 January 1979
- journal article
- aus der-praxis
- Published by Taylor & Francis in Isotopenpraxis Isotopes in Environmental and Health Studies
- Vol. 15 (12) , 392-395
- https://doi.org/10.1080/10256017908544391
Abstract
Die Anwendung der Neutronenaktivierungsanalyse als Verfahren zur Bestimmung von Spurenverunreinigungen in hochreinen Materialien, von Zusammensetzungen bei Mehrkomponenten-systemen, von Verteilungen eines Elements in einer anders-artigen Matrix und von Umgruppierungen bestimmter Elemente im Verlauf technologischer Teilschritte ist seit langem bekannt und nimmt einen festen Platz vor allem auch in der Halbleiter-technik ein [1, 2]. Die extremen Empfindlichkeitsanforderungen bei der Bestimmung von Mikroverunreinigungen sprechen trotz des relativ hohen Arbeits-und Zeitaufwands oftmals für die Aktivierungsanalyse, zumal die in der letzten Zeit erzielten Fort-schritte in der Meßtechnik und bei der rechnergestützten Auswertung einen neuen Qualitätsaspekt bewirkten.Keywords
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- Neutron activation analysis of semiconductor siliconJournal of Radioanalytical and Nuclear Chemistry, 1977
- Ein Automatisiertes Mess-System für die Ge(Li)-GammaspektrometrieJournal of Radioanalytical and Nuclear Chemistry, 1975
- Activation analytical methods for the grading of semiconductor crystalsJournal of Radioanalytical and Nuclear Chemistry, 1974
- Gaspan - An Advanced Computer Code for the Analysis of High Resolution Gamma-Ray SpectraIEEE Transactions on Nuclear Science, 1968