Plasma CVD zur Herstellung funktioneller Schichten im Maschinenbau
- 1 January 1994
- journal article
- research article
- Published by Wiley in Vakuum in Forschung und Praxis
- Vol. 6 (4) , 259-265
- https://doi.org/10.1002/vipr.19940060404
Abstract
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- Prozeßoptimierung bei der Hartstoffbeschichtung im Plasma‐CVD‐Verfahren mit Hilfe der optischen EmissionsspektroskopieMaterialwissenschaft und Werkstofftechnik, 1993
- Metal alkoxides as precursors for electronic and ceramic materialsChemical Reviews, 1989
- Oberflächen- und Dünnschicht-TechnologiePublished by Springer Nature ,1987
- Chemischer transport im nichtisothermen plasma; bildung von ain- und tin-kristallenJournal of Crystal Growth, 1971