The rate of chemical vapor deposition of TiC
- 1 January 1977
- journal article
- Published by Elsevier in Thin Solid Films
- Vol. 40, 81-88
- https://doi.org/10.1016/0040-6090(77)90105-5
Abstract
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- Détermination des équilibres chimiques complexes dans les systèmes polyphasés: II. Application au calcul des domaines de dépôts obtenus à partir d'une phase vapeur du système TiCHClJournal of the Less Common Metals, 1975
- Partial pressure of TiCl4 in CVD of TiNJournal of Vacuum Science and Technology, 1974