Dispositif pour l'étude par réflexion sélective des raies spectrales de vapeurs à haute pression et haute température. Application à la vapeur de mercure
Open Access
- 1 January 1972
- journal article
- Published by EDP Sciences in Revue de Physique Appliquée
- Vol. 7 (3) , 193-196
- https://doi.org/10.1051/rphysap:0197200703019300
Abstract
On décrit un appareillage haute pression haute température destiné à l'étude de la réflexion sélective d'une vapeur métallique, et plus particulièrement de la vapeur de mercure pour laquelle le domaine de pression s'étend de 1 à 500 bar et le domaine de température de 350 à 1200 °CKeywords
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