Zur Orientierung von Metallaufdampfschichten auf Kupfereinkristallflächen (nach Beobachtungen mit Elektroneninterferenzen)

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Abstract
Kupfer-(111)-Einkristallflächen, die vorher durch elektrolytische Politur geebnet sind, werden innerhalb der Elektroneninterferenzapparatur, die mit einer Kathodenzerstäubungsanlage kombiniert ist, von den Verunreinigungen des Polierbades befreit. Auf die so gereinigten Einkristalloberflächen werden die Metalle Cu, Ag, Au, Pd, Fe und Zn aufgedampft. Es zeigt sich im Gegensatz zu nur elektrolytisch polierten Flächen eine vollständige Orientierung dieser Schichten zur Kupferoberfläche. Folgende Orientierungen werden gefunden: Bei den flächenzentrierten Metallen legt sich die (111)-Fläche auf die Kupferoberfläche und setzt die Orientierung des Kupfergitters fort. Es wird dabei Zwillingsbildung nach der (111)-Fläche beobachtet. Das (raumzentrierte) Eisen legt sich mit der (110)-Fläche auf die (111)-Kupferoberfläche, so daß [001]Fe parallel zu einer der drei gleichwertigen [110]-Richtungen des Kupfers in der Berührungsfläche ist. Beim Zink wächst die c-Ebene in Einkristallorientierung auf die (111)-Kupferoberfläche auf.

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