Bildung siliciumorganischer Verbindungen. 85 [1]. Bildung, Reaktionen und Struktur des 1,1,3,3‐Tetramethyl‐2,4‐bis(trimethylsilyl)‐1,3‐disilabicyclo[1, 1, 0]butans

Abstract
Me3SiCCl2Sime2Cl (me  CH3) läßt sich mit n‐buLi (bu  C4H9) bei–100°C (Lösungsmittel THF/Äther) in me3SiCCl(Li)Sime2Cl a überführen. das mit meJ me3SiCClmeSime2Cl bildet. Wird a in Abwesenheit eines Abfangreagenzes langsam erwärmt, so bildet sich unter Abspaltung von LiCl (Cl aus der SiCl‐Gruppe) über eine reaktive Zwischenstufe des Bicyclobutans b. magnified image Die Struktur von b ist durch NMR‐Untersuchung, Röntgenstrukturanalyse und Abbaureaktionen gesichert. Mit HBr bzw. CH3OH werden die SiC‐Bindungen der Dreiringe in b gespalten, so daß sich me3SiCH2C(Sime2X)2Sime3 (X  Br, OCH3) bildet.Formation of Organosilicon Compounds. 85. Formation, Reactions, and Structure of 1,1,3,3‐Tetramethyl‐2,4‐bis(trimethylsilyl)‐1,3‐disilabicyclo[1, 1, 0]butaneme3SiCCl2Sime2Cl (me  CH3) with n‐buLi (bu  C4H9) at –100°C (solvent: THF/ether) yields me3SiCCl(Li)Sime2Cl a, which forms me3SiCClmeSime2Cl with meI. By warming a slowly in absence of any trapping reagent the bicyclobutane b is obtained via a reactive intermediate under elimination of LiCl (Cl from the SiCl group). The structure of b is established by nmr investigations, X‐ray structure determination and chemical derivatisation.

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