Diffusion Raman spontanée dans (P2O5) x-(SiO2)1-x et (B2 O3)x-(SiO2)1- x

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Abstract
Les spectres de diffusion Raman spontanée des composés binaires (P 2O5)x-(SiO2)1- x et (B2O3)x-(SiO 2)1-x, obtenus par dépôt en phase vapeur, sont comparés à celui de la silice pure dans le domaine de 20 à 1 400 cm -1. De nouvelles bandes caractéristiques apparaissent à 700, 1 140 et 1 330 cm-1 pour (P2O5)x-(SiO 2)1-x et à 940 cm-1 pour (B 2O3)x-(SiO2)1- x avec x petit. Les bandes à 700 et 1 330 cm-1 sont utilisées pour étudier le profil de la distribution de (P2O 5)x-(SiO2)1-x dans une préforme de fibre optique