Fine control of the pore-opening size of zeolites by continuous-flow type CVD method.
- 1 January 1990
- journal article
- Published by Society of Chemical Engineers, Japan in KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU
- Vol. 16 (3) , 564-570
- https://doi.org/10.1252/kakoronbunshu.16.564
Abstract
流通式CVD (化学蒸着) 法を用いて, 大量のゼオライトに対し, 細孔入口径の精密制御を行うことができた.本研究ではこの一例として, 固定層試料にNaA型ゼオライトを, 蒸着剤にSi (OCH3)4を使用した.調製したシリカNaA型ゼオライトの特性は, N2吸着測定とXPS表面分析で調べた. 乾燥Heによる673Kの前処理を十分長い時間行うことにより, 流れ方向に分布のない均-な試料を調製することができた.これは, ゼオライト中の水分や水酸基の濃度が十分低いためであると考えた.また, 蒸着-加水分解を繰り返すことにより, 蒸着シリカの量を調節することができた.細孔入口径の狭まる程度は, 蒸着シリカの量 (1～3のシリカ層に相当する) のみによって決定され, これらの相関性は調製条件に依存しなかった.This publication has 0 references indexed in Scilit: