Description d'un montage permettant l'étude des défauts ponctuels par diffusion de rayons X
- 1 January 1963
- journal article
- Published by EDP Sciences in Journal de Physique et le Radium
- Vol. 24 (7) , 560-564
- https://doi.org/10.1051/jphys:01963002407056001
Abstract
Nous avons mis au point un montage pour observer de faibles diffusions des rayons X autour du faisceau incident. La collimation ponctuelle et la symétrie cylindrique donnent à cet appareil une très grande sensibilité. Il nous est ainsi possible d'étudier la répartitiondes défauts ponctuels dans le réseau si leur concentration est suffisanteKeywords
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- Effect of Impurities on the Flow Stress of LiF CrystalsJournal of Applied Physics, 1962
- Improved Monochromator for Diffuse X-Ray Scattering MeasurementsReview of Scientific Instruments, 1956