Über die Reaktionsfähigkeit von Al2O3 und NiAl2O4 in Chlor und Chlor‐Sauerstoffgemischen bei höheren Temperaturen

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Abstract
Um die Aussicht auf eine reaktionshemmende Wirkung einer auf einer Ni‐Cr‐Al‐Legierung auftretenden Al2O3 bzw. NiAl2O4‐Deckschicht gegen den Angriff von Chlor bei höheren Temperaturen zu prüfen, wurde zunächst die Chlorierung von Al2O3‐ bzw. NiAl2O4‐Presslingen in Chlor und Cl2‐O2‐Gemischen zwischen 700 und 1000°C untersucht. Die Geschwindigkeit der Chlorierung von Al2O3 ist mit 5,8 × 10−2 mg/cm2h bei 1000°C erheblich geringer als die von NiAl2O4, die bereits bei 800°C 2,6 mg/cm2h beträgt. Die Chlorierung von Al2O3 nimmt mit steigendem Chlor‐Partialdruck zu und mit steigendem Sauerstoff‐Partialdruck ab. Im Falle des Spinells war keine Sauerstoffdruck‐Abhängigkeit beobachtbar.