Reactive ion etching of Pt/PZT/Pt ferroelectric thin film capacitors in high density DECR plasma
- 31 December 1995
- journal article
- Published by Elsevier in Microelectronic Engineering
- Vol. 29 (1-4) , 45-48
- https://doi.org/10.1016/0167-9317(95)00113-1
Abstract
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