Abstract
Les changements de concentration en aluminium dans les dispositifs GaAs/Al xGa1-xAs sont étudiés par Microscopie Electronique en Transmission. Lorsque l'épaisseur de l'échantillon est inférieure à 80 nm, l'intensité diffractée I200 en position de Bragg est une fonction croissante de la concentration x en Al. Deux exemples d'hétérogénéité de concentration sont discutés : un excès d'aluminium observé au départ de la croissance de AlxGa1 - xAs en MOCVD et une fluctuation périodique de composition dans des couches élaborées par MBE