Über Die Justierung Ebener Strukturen Mittels Moiré
- 1 January 1976
- journal article
- research article
- Published by Taylor & Francis in Optica Acta: International Journal of Optics
- Vol. 23 (1) , 49-61
- https://doi.org/10.1080/713819121
Abstract
Die Justierung von ebenen Strukturen relativ zueinander kann an Hand von Moiré-Interferenzstreifen vorgenommen werden. Moiré's von linearen Gittern eignen sich als Justierkriterium für den Drehungsfreiheitsgrad und die von Radialgittern für die Translationsfreiheitsgrade. Als Justierkriterium wird das Verschwinden einer Differenz zweier Photowechselspannungen von zwei Detektoren am Rande des Gesichtsfeldes verwendet. Zum Erzeugen der Wechselspannung wird das Moiré-Interferenzbild durch geeignete Mittel gewobbelt. Mit einem relativ groben Raster wurden in einer Testanordnung die prinzipielle Funktion und die Meßgenauigkeit untersucht.Keywords
This publication has 3 references indexed in Scilit:
- Recent Advances in Graticule and Mask MakingOptica Acta: International Journal of Optics, 1973
- Photolithographic Mask Alignment Using Moiré TechniquesApplied Optics, 1972
- The Development of Alignment Techniques for the Fabrication of Microelectric DevicesHuman Factors: The Journal of the Human Factors and Ergonomics Society, 1969