Influence du Procédé de Contrôle Sur Les Tolérances de Réalisation des Filtres Interférentiels à Bande Etroite

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Abstract
Pour contrôler la formation de couches d'épaisseurs optiques ne égales ou multiples d'une même valeur u0/4, on utilise couramment des méthodes optiques. Il est en particulier commode de repérer, au cours de l'évaporation, pour la longueur d'onde de centrage du filtre u0, les extremums du facteur de transmission T. Mais on doit bien distinguer les extremums correspondant à T/ e=0 des extremums du profil spectral (T/u=0) observables pendant le dépôt de chaque couche. La simulation par le calcul sur ordinateur permet de montrer que l'influence des erreurs de réalisation de chaque couche, sur le résultat final, dépend du procédé de contrôle utilisé. Le repérage des zéros de T/u ne permet pas de bénéficier d'une compensation des erreurs aussi exceptionnelle que celui des zéros de T/e. On souligne ainsi l'intérêt du choix d'un contrôle ‘stable’ où l'influence des erreurs cumulatives est telle que leurs effets se compensent parfaitement. Les tolérances de réalisation des filtres interférentiels sont alors beaucoup plus grandes que celles admises en négligeant l'effet des erreurs cumulatives; on justifie ainsi intérêt d'un contrôle effectué directement sur l'empilement en cours de formation. Mais, si le calcul justifie parfaitement les difficultés rencontrées lorsque l'on utilise le contrôle en T/u pour réaliser certains filtres à bande étroite, par contre, on doit admettre que des paramètres négligés dans les calculs de simulation (diffusion et influence de la température) perturbent suffisamment le contrôle pour rendre difficile la réalisation de filtres à bande très étroite.