Contamination d'un plasma d'argon par des vapeurs anodiques de cuivre
- 1 January 1979
- journal article
- Published by EDP Sciences in Revue de Physique Appliquée
- Vol. 14 (8) , 775-782
- https://doi.org/10.1051/rphysap:01979001408077500
Abstract
La région proche de l'anode en cuivre (1 mm à 1 cm) d'un arc stabilisé sous atmosphère d'argon (15 A et 30 A) est étudiée. Un abaissement de température important dû à la présence des vapeurs métalliques ainsi que la répartition concentrique et périphérique du cuivre sont mis en évidence. La concentration en cuivre se situe entre 10-2 et 10-5. La méthode permettant de calculer les différents paramètres à partir des valeurs expérimentales est indiquéeKeywords
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- Multi step analysis of interconnected grounding electrodesIEEE Transactions on Power Apparatus and Systems, 1976