Plasma‐CVD

Publisher Website
Google Scholar
Abstract
CVD Beschichtungsprozesse Können durch eine Plasmaaktivierung zu niedrigeren Temperaturen verschoben werden. Die Plasma CVD Verfahren werden mit ihren spezifischen Vorteilen zukünftig für den allgemeinen Maschinenbau eine wachsende Bedeutung erlangen. Im vorliegenden Beitrag werden die Grundzüge des Prozesses, der Einfluß der Prozeßparameter und die Möglichkeiten des Verfahrens am Beispiel der titanhaltigen Beschichtungen vorgestellt. Die daraus resultierenden notwendigen Forschungsaktivitäten geben einen Hinweis auf zukünftige Entwicklungen.