Zur Versetzungsbildung an Ritzen auf einkristallinen Silizium‐Oberflächen

Abstract
Definiert geritzte (111)‐Scheiben wurden bei 850 °C und 1000 °C getempert und mittels Strukturätzen, Röntgentopographie und Elektronenmikroskopie untersucht. Es wird der Zusammenhang zwischen Versetzungsanordnung und dem erzeugenden Verspannungszustand diskutiert. Die elektronenmikroskopischen Beobachtungen lassen sich interpretieren, wenn man eine Reaktion unter Bildung von Lomer‐Versetzungen annimmt.