Incorporation concentration dependence of phosphorus in the deposition of silicon epitaxial layers from silane‐phosphine‐hydrogen mixtures
- 1 January 1979
- journal article
- research article
- Published by Wiley in Crystal Research and Technology
- Vol. 14 (3) , 333-342
- https://doi.org/10.1002/crat.19790140315
Abstract
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- The Incorporation of Phosphorus in Silicon Epitaxial Layer GrowthJournal of the Electrochemical Society, 1974
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