Die Abscheidung von Bornitridschichten auf Siliziumsubstraten und ihre Verwendung als Diffusionsquelle
- 16 November 1971
- journal article
- Published by Wiley in Physica Status Solidi (a)
- Vol. 8 (1) , 71-78
- https://doi.org/10.1002/pssa.2210080106
Abstract
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- Über ein neues Verfahren zur Abscheidung von Siliziumnitridschichten auf SiliziumZeitschrift für Physikalische Chemie, 1969
- Preparation and Properties of Thin Film Boron NitrideJournal of the Electrochemical Society, 1968
- The average conductivity of diffused layers in semiconductorsSolid-State Electronics, 1964
- Resistivity of Bulk Silicon and of Diffused Layers in SiliconBell System Technical Journal, 1962